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日立分析儀器(上海)有限公司

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全譜火花直讀光譜儀 Spark 8000

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創新:
2020-04-08
Spark 8000 全譜火花直讀光譜儀采用高分辨率線陣CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)作為檢測器,CMOS 檢測儀器集成性高、讀取速度更快、功耗低、長期穩定性更高;每個像素自帶放大器,可對特殊元素進行強度調整,增加儀器的準確度,降低分析限,實現全譜掃描。采用智能控制光室充氣系統,儀器性能更穩定,服務期限更長久。海量的譜線使分析不再受限,曲線分段跳轉同一元素不同譜線間實現無縫銜接,拓展分析范圍第三元素干擾校正使元素分析更加準確,可以在用戶現場任意增加材料基體和分析元素而無需增加硬件,維護保養方便。能量、頻率連續可調全數字固態光源,適應各種不同材料;網口采集傳輸,速度快,通用性更強。

    鋼研納克檢測技術股份有限公司(股票代碼:300797)是*企業中國鋼研科技集團有限公司(鋼鐵研究總院)的二級單位,專業從事分析儀器裝備和分析檢測技術的研究、開發和應用的高新技術創新型企業。目前公司提供的主要服務或產品包括分析檢測儀器、第三方檢測服務、標準物質/標準樣品、能力驗證服務等檢測相關產品與延伸服務。

    鋼研納克不僅是中國分析儀器設備制造的行業,也是國內元素檢測領域儀器種類齊全、綜合實力較強的儀器裝備和分析測試技術的研究機構之一。依托國家鋼鐵材料測試中心和儀器產業基地,公司及子公司牽頭制修訂7項標準、參與制修訂標準20余項、制定170余項國家及行業標準;研制家級標準物質/標準樣品300多種。力爭成為測試儀器裝備領域有影響力的競爭參與者、成為具有影響力的材料表征評價認證的機構和綜合解決方案的提供者。

    鋼研納克分析儀器產品主要包含:直讀光譜儀、碳硫分析儀、氧氮氫分析儀、ICP光譜儀、ICP-MS、土壤重金屬檢測儀、食品重金屬檢測儀、波長色散X射線熒光光譜儀、金屬原位分析儀、脈沖熔融-飛行時間質譜儀、試驗機、環保監測設備等技術水平先進的檢測裝備,其中多款儀器填補國內外空白(屬國內首臺套)。產品質量穩定,檢測數據可靠,累計市場占有率排名國內*,部分產品成為同類產品的業界*,牽頭制定了相關儀器和檢測標準。

 

    鋼研納克分析儀器發展歷程

1952年 鋼研納克起源于建國初期成立的鋼鐵研究總院

1956年 鋼鐵研究總院測試所儀器組成立,鋼研納克儀器產業起步

1977年 鋼研納克研發了中國首臺真空熔融氣體分析儀

1991年 中國首臺脈沖紅外定氧儀在這里誕生,儀器產業化發展正式起步

2001年 注冊成立“北京納克分析儀器有限公司”,儀器板塊進入快速發展軌道

2003年 牽頭*“十五”國家科技攻關計劃重大項目《科學儀器研制與開發》

2006年 鋼研納克率先推出高品質國產火花直讀光譜儀,打破國外近半個世紀的壟斷

2009年 鋼研納克單掃描ICP光譜儀實現量產,ICP產品進入產業化發展階段

2011年 牽頭承擔國家重大科學儀器專項《ICP痕量分析儀器的研制》

2014年 直讀光譜儀(Labspark1000)榮獲首屆“國產好儀器”稱號

2014年 氧氮氫分析儀(ONH-3000)、碳硫分析儀(CS-3000G)榮獲“國產好儀器”稱號

2015年 電感耦合等離子體質譜儀(PlasmaMS 300)獲得國產儀器獎BCEIA金獎

2015年 食品重金屬檢測儀(NX-100F)獲得國產儀器獎BCEIA金獎

2017年 直讀光譜儀(SparkCCD 6000)獲得國產儀器獎BCEIA金獎

2019年 ICP光譜儀(Plasma 3000)獲得國產儀器獎BCEIA金獎

儀器

品牌 NCS/鋼研納克 波長范圍 130-800nm
通道數 無通道限制 刻線數 2700 條nm
焦距 500mm 儀器種類 臺式
激發方式 火花 價格區間 面議
檢測器類 電荷耦合元件(CCD) 應用領域 電子,冶金,航天,汽車,電氣

儀器介紹

      鋼研納克直讀光譜儀,業界*產品,中國直讀光譜儀!源于中國冶金行業的科研機構鋼鐵研究總院,具有70年金屬分析檢測經驗,金屬檢測標準制定者。20年直讀光譜儀制造歷史,做更專業的光譜儀!直讀光譜儀國家標準GB/T4336起草單位,央企品牌,上市公司,品質服務!

    全譜火花直讀光譜儀 Spark 8000 可廣泛應用于冶金、鑄造、機械、鋼鐵和有色金屬等行業, 在汽車制造、航空航天、船舶、機電設備、工程機械、電子電工、教育、科研等領域的原料、零件、產品工藝研發方面都有廣泛的應用,可用于 Fe、Al、Cu、Ni、Co、Mg、Ti、Zn、Pb、 Sn、Mn 等金屬及其合金的樣品分析。

    全譜火花直讀光譜儀 Spark 8000  采用高分辨率線陣CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)作為檢測器,CMOS 檢測儀器集成性高、讀取速度更快、功耗低、長期穩定性更高;每個像素自帶放大器,可對特殊元素進行強度調整,增加儀器的準確度,降低分析限,實現全譜掃描。采用智能控制光室充氣系統,儀器性能更穩定,服務期限更長久。海量的譜線使分析不再受限,曲線分段跳轉同一元素不同譜線間實現無縫銜接,拓展分析范圍第三元素干擾校正使元素分析更加準確,可以在用戶現場任意增加材料基體和分析元素而無需增加硬件,維護保養方便。能量、頻率連續可調全數字固態光源,適應各種不同材料;網口采集傳輸,速度快,通用性更強。

 

技術參數與優勢

儀器參數

電源要求:220V±10%,單相,16A,2.5KVA

外形尺寸:500cm×825cm×451cm(寬 * 深 * 高)  量:70kg

檢測器靈敏度行業先進

高靈敏度 CMOS 檢測器,像素數:4096,全行業先進,像素尺寸: 7μm,全行業先進,精薄鍍膜,紫外波段檢出限更低,可做低含量線性度好,圖像滯后小,工作頻率范圍寬,可在 1~10MHz 下工作

萬級超凈環境下打造光學系統 

帕邢 - 龍格結構羅蘭光學系統,無像差,分辨率均勻 ,高發光全息光柵,光柵焦距 500mm, 刻線為 2700 條 /mm,全行業先進 ,線分辨率: 0.7407nm/mm ,像素分辨率 :0.005926nm ,譜線范圍:130-800nm(可分析 N、Li、 Na、K 等元素)

啟動便捷,成本大幅降低 

潮汐式沖洗方式,冷機(關機 12 小時)啟動只需 30min,熱機啟動時間 5min,智能判斷分析間隔時間,合理補充氬氣,降低氬氣消耗 60ml/min 超低待機流量,一瓶氬氣 24 小時待機 70 天

分片式曝光,痕量元素識別強度大幅提高,檢出限更低

一次激發,分片曝光,同時采集,同時回數,獨立控制不同 CMOS 的積分曝光時間,提升痕量元素的強度,降低儀器的檢出限,隨波段調節積分時間,提升儀器的穩定性

 

儀器特點

全固態數字火花光源

全固態數字火花光源

能量、頻率連續可調

頻率可達 1000Hz

MTBF(平均無故障間相隔時間)> 5000 小時

同軸自旋式氣路激發臺

自旋氣路

增壓式自吹掃

激發充分

千次激發無需清理

恒溫系統

硅膠加熱膜,加熱均勻、穩定

高精度溫控系統,溫度控制精度±0.1℃

多重保溫措施,隔絕環境溫度影響,保證光學系統穩定

自保護透鏡隔離閥

便于維護

消除誤操作引起的光學系統污染

采集系統

網口傳輸方式,數據傳輸穩定、可靠

多線程數據采集,采集速度快、頻率高

第三元素干擾

自動扣除元素間加合、倍增干擾,分析結果更加精準

分析軟件 

簡潔清新、功能強大

多語言版本(中、英、俄、德)

智能冶煉配料計算

牌號識別

支持碳當量等自動計算功能

曲線分段跳轉

元素含量高低曲線分段,自動匹配,分析范圍廣

未知樣品自動匹配合適的分析程序

高速智能校正

單次激發即可校正全譜

自動校準像素漂移,保證光學系統穩定性

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